高純氫氣廣泛用于電子工業(yè)，石油化工，金屬冶煉，國(guó)防前沿和科研等領(lǐng)域。也可用作制備標(biāo)準(zhǔn)氣體的原料氣和色譜用載氣。 。隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，科學(xué)實(shí)驗(yàn)和工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)，特別是某些高科技產(chǎn)品，例如超大型集成電路和光電產(chǎn)品，要求嚴(yán)格控制氫的純度及其雜質(zhì)含量，要求將O2，H2O，HTC（總烴），CO，CO2等雜質(zhì)提純至10-9-10-12，用于有色金屬的冶煉加工，硅鋼，帶鋼的生產(chǎn)，精密合金和浮法玻璃都需要使用純度約為99.999％的氫氣，天然氣工業(yè)中的氣體分析和氣體凈化需要純氫氣。目前，工業(yè)化生產(chǎn)的大部分工業(yè)氫氣都應(yīng)經(jīng)過(guò)化學(xué)處理，以滿足各行各業(yè)的需要。氫的純化方法主要包括化學(xué)吸收法，催化反應(yīng)法，選擇性吸附法和膜分離法。測(cè)定總烴的方法和原理在氣相色譜分析和檢測(cè)過(guò)程中，氣相色譜儀對(duì)所用氣體的純度有更高的要求。為了滿足工作要求并延長(zhǎng)儀器的使用壽命，所用氣體的純度應(yīng)等于或略高于儀器自身對(duì)氣體純度的要求，否則，如果不滿足要求的低純度氣體使用該要求，將導(dǎo)致一系列不利影響。另外，在硅外延期間，氫氣與加熱的硅襯底的表面上的四氯化硅或三氯化硅反應(yīng)，還原硅并將其沉積在硅襯底上以形成外延層。在上述過(guò)程中，氫的純度非常高。如果烴含量太高，則會(huì)生成碳化硅，從而在外延層中引起星形缺陷。因此，有必要對(duì)高純度氫中所含的總烴進(jìn)行有針對(duì)性的監(jiān)測(cè)。中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)推薦的氣體中總烴的測(cè)定方法是叉車(chē)火焰電離法，目前大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室都在使用。此方法的工作原理：樣品進(jìn)入電離室后，在氫火焰的高溫下被電離以生成陽(yáng)離子。由于離子數(shù)量與被測(cè)組分的含量成正比，因此可以通過(guò)工作站（或記錄儀）確定并記錄其含量。相應(yīng)組分的色譜峰?；鹧骐婋x檢測(cè)器上總碳?xì)浠衔锏捻憫?yīng)信號(hào)是各種碳?xì)浠衔镄盘?hào)的總和。到目前為止，除了食品級(jí)二氧化碳的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)（該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定以甲烷計(jì)算總碳?xì)浠衔铮┩猓瑢?duì)于其他氣體中的總碳?xì)浠衔镞€沒(méi)有統(tǒng)一的基準(zhǔn)。這里，甲烷也用作參考物質(zhì)，并且分析結(jié)果以甲烷計(jì)算。氫氣是易燃的壓縮氣體。存放在陰涼通風(fēng)的倉(cāng)庫(kù)中。倉(cāng)庫(kù)中的溫度不應(yīng)超過(guò)30℃。遠(yuǎn)離火和熱。防止陽(yáng)光直射。應(yīng)與氧氣，壓縮空氣，鹵素（氟，氯，溴），氧化劑等分開(kāi)存放。避免混合存放和運(yùn)輸。儲(chǔ)藏室的照明，通風(fēng)和其他設(shè)施應(yīng)防爆。交換機(jī)應(yīng)位于倉(cāng)庫(kù)外部，并配備相應(yīng)品種和數(shù)量的消防設(shè)備。禁止使用容易產(chǎn)生火花的機(jī)械設(shè)備和工具。在驗(yàn)收期間，請(qǐng)注意產(chǎn)品名稱和瓶子檢查的日期。先使用高級(jí)倉(cāng)庫(kù)。在搬運(yùn)過(guò)程中要輕拿輕放，以免損壞鋼瓶和配件。